Już 26 października rozpocznie się trzecia edycja Międzynarodowej Konferencji Metrologicznej New Trends in Metrology 2026. Na trzy dni Kielce staną się miejscem dyskusji przedstawicieli uczelni, instytutów badawczych, Głównego Urzędu Miar, EURAMET-u oraz firm rozwijających i wykorzystujących technologie pomiarowe.
Program konferencji dobrze pokazuje, jak szerokie zastosowanie ma metrologia. Wśród poruszanych tematów znalazły się zagadnienia dotyczące przemysłu, energetyki, obronności, medycyny, automatyzacji, sztucznej inteligencji i nowoczesnych technologii produkcji.
Pierwszy dzień rozpocznie się ceremonią otwarcia, po której odbędzie się sesja plenarna. Dr Mikko Merimaa z EURAMET przedstawi europejską agendę metrologiczną na kolejną dekadę. Prof. Piotr Samczyński z Politechniki Warszawskiej będzie mówił o nowych kierunkach rozwoju radarów pasywnych, prof. Michał Wieczorowski z Politechniki Poznańskiej – o metrologicznych aspektach gospodarki wodorowej, a prof. Małgorzata Kujawińska z Politechniki Warszawskiej – o ilościowym obrazowaniu fazowym 2D i 3D.
W kolejnych sesjach tego dnia pojawią się m. in. zagadnienia związane z metrologią kwantową i optyczną. Wśród tematów znalazły się m.in. kwantowe wzorce rezystancji, precyzyjna spektroskopia molekularnego wodoru oraz polskie zegary optyczne i udział krajowych zespołów w międzynarodowych pracach nad redefinicją sekundy.
27 października: GUM, technologie przemysłowe i uczenie maszynowe
Drugi dzień rozpocznie wykład keynote spekera prof. Alessandro Ruggiero z Uniwersytetu w Salerno. Kolejnym mówcą będzie Dyrektor Generalny Głównego Urzędu Piotr Ziółkowski, który zaprezentuje System Pustułka dla Kielc. Trzecie wystąpienie dotyczyć będzie metrologii dla obronności i wygłosi je prof. Jacek Świderski. Następnie uczestnicy odwiedzą Świętokrzyski Kampus Laboratoryjny Głównego Urzędu Miar.
Po południu program przesunie się mocniej w stronę zastosowań przemysłowych. Sławomir Janas z Centrum Metrologii Badań i Certyfikacji RADWAG przedstawi możliwości systemów wagowych w metrologii masy. Prof. Witold Habrat z Politechniki Rzeszowskiej będzie mówił o pomiarach w procesach skrawania z wykorzystaniem podejścia multisensorycznego i uczenia maszynowego, a dr hab. inż. Jerzy Józwik z Politechniki Lubelskiej – o monitorowaniu maszyn CNC i procesów w czasie rzeczywistym. NTiM
Ostatnia sesja drugiego dnia będzie dotyczyła metrologii elektrycznej, magnetycznej i nanotechnologii.
28 października: biznes, nowoczesne technologie pomiarowe i sesja plakatowa
Trzeci dzień będzie najmocniej związany z praktyką przemysłową. Arkadiusz Markowski z Labteq pokaże, jak rozszerzona rzeczywistość i sztuczna inteligencja mogą przyspieszać inspekcję wizualną. Anna Gębarska ze Smarttech przedstawi koncepcję metrologii dla obronności, a Grzegorz Pędzisz z Carl Zeiss będzie mówił o metrologii w przemyśle. Na konferencji wystąpią również przedstawiciele firm działających bezpośrednio w obszarze technologii pomiarowych. Artur Rębiś z Siemens opowie o pomiarach realizowanych w obrabiarkach z wykorzystaniem systemu SINUMERIK, a Krzysztof Wołowiec z Laboratoryjnie.pl – o systemach zarządzania wspierających kompetencje techniczne laboratoriów.
Obecność biznesu jest ważną częścią programu New Trends in Metrology. Konferencja zestawia badania naukowe z doświadczeniem firm, które wykorzystują technologie pomiarowe w produkcji, kontroli jakości, automatyzacji i zarządzaniu procesami technologicznymi.
Ostatniego dnia odbędzie się również sesja plakatowa obejmująca 40 prac oraz prezentacja Klastra Metrologicznego.
New Trends in Metrology 2026 odbędzie się w dniach 26–28 października 2026 r. w Kielcach. Trzy dni programu pokazują szerokie spektrum współczesnej metrologii – od badań podstawowych, przez system miar i prace laboratoriów, po rozwiązania rozwijane i wykorzystywane w przemyśle.
Więcej o konferencji:
https://konferencja-pum.pollub.pl/